Neue Technologien und Optionen für die Echtzeit-Überwachung von Aerosolpartikeln in Halbleiterprozessanlagen

Die Halbleiterherstellung treibt den technologischen Fortschritt voran und erfordert unterstützende Lösungen für die Kontaminationsüberwachung, die mit diesen Fortschritten Schritt halten. Die Wafer durchlaufen während des Herstellungsprozesses viele Prozesswerkzeuge und benötigen daher Kontaminationsdaten in Echtzeit, um die Wafer vor Schäden zu schützen.

Die neueste Technologie zur Überwachung von Aerosolpartikeln bietet sofortige und kontinuierliche Daten, die eine schnelle und präzise Erkennung von Partikelverunreinigungen während des Herstellungsprozesses mit einer Empfindlichkeit für Partikel von nur 10 nm ermöglichen. Darüber hinaus kann jetzt mit einem einzigen Partikelzähler in Kombination mit einem Mehrpunkt-Verteilerzubehör eine vollständige Abdeckung der Werkzeuge erreicht werden.

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• Neue Möglichkeiten für die Kontaminationskontrolle durch die neuesten Partikelzählungslösungen
• Wie man Partikeldaten in Echtzeit zur Fehlerbehebung und zur Verbesserung der allgemeinen Werkzeugsauberkeit nutzen kann
• Die Vorteile einer vollständigen Werkzeugabdeckung mit einem Mehrpunktverteilersystem

Das englischsprachige Webinar wird präsentiert von:

David Green,  Applications Engineer

David Green ist Applications Engineer bei PMS und hat einen Abschluss in Physik vom University College London. Er arbeitete über 13 Jahre im Bereich der Teilchenmesstechnik und kam 2013 als F&E-Ingenieur zu PMS.