Im Austausch mit Jochen Ruth, UPW and Water Reclaim Global Specialist bei Pall GmbH beleuchten wir, warum 50 nm heute Standard ist, 20 nm jedoch die Grundlage für höhere Sensitivität, bessere Reliability und eine zukunftssichere Auslegung von Reinstwassersystemen schafft.
Die Reinstwasseraufbereitung ist ein zentraler Prozess in der Halbleiterfertigung. In der Präsentation wird der UPW-Prozess gemäß SEMI F63 dargestellt und die Messtechnik entlang der Filterkaskade eingeordnet – von Ultrafiltration über Vorfilter bis zu Terminalfiltern. Gemeinsam betrachten wir aktuelle Anforderungen an Filtration und Monitoring sowie die Frage, wie sich Reinstwassersysteme langfristig robuster und zukunftssicher auslegen lassen. Ein zentraler Vorteil der höheren Sensitivität: Veränderungen in der Filterperformance werden früher sichtbar. Die in der Präsentation gezeigte Cartridge Filter Age Study beschreibt eine deutliche Korrelation zwischen Filteralter und 20-nm-Partikelanzahl und zeigt damit das Potenzial für optimierte Filterlaufzeiten und Tauschzyklen.